टैंटलम स्पटरिंग टारगेट - डिस्क
विवरण
टैंटलम स्पटरिंग लक्ष्य मुख्य रूप से अर्धचालक उद्योग और ऑप्टिकल कोटिंग उद्योग में लागू होता है।हम सेमीकंडक्टर उद्योग और ऑप्टिकल उद्योग से ग्राहकों के अनुरोध पर वैक्यूम ईबी फर्नेस स्मेल्टिंग विधि के माध्यम से टैंटलम स्पटरिंग लक्ष्य के विभिन्न विनिर्देशों का निर्माण करते हैं।अद्वितीय रोलिंग प्रक्रिया से सावधान होकर, जटिल उपचार और सटीक एनीलिंग तापमान और समय के माध्यम से, हम टैंटलम स्पटरिंग लक्ष्य जैसे डिस्क लक्ष्य, आयताकार लक्ष्य और रोटरी लक्ष्य के विभिन्न आयामों का उत्पादन करते हैं।इसके अलावा, हम गारंटी देते हैं कि टैंटलम शुद्धता 99.95% से 99.99% या अधिक के बीच है;अनाज का आकार 100um से नीचे है, समतलता 0.2 मिमी से नीचे है और सतह खुरदरापन Ra.1.6μm से नीचे है।आकार ग्राहकों की आवश्यकताओं के अनुसार सिलवाया जा सकता है।हम पूरी उत्पादन लाइन तक कच्चे माल के स्रोत के माध्यम से अपने उत्पादों की गुणवत्ता को नियंत्रित करते हैं और अंत में अपने ग्राहकों को यह सुनिश्चित करने के लिए वितरित करते हैं कि आप हमारे उत्पादों को स्थिर और समान गुणवत्ता के साथ खरीदते हैं।
हम अपनी तकनीकों को नया करने, उत्पाद की गुणवत्ता बढ़ाने, उत्पाद उपयोग दर बढ़ाने, लागत कम करने, उच्च गुणवत्ता वाले उत्पादों लेकिन कम खरीद लागत के साथ अपने ग्राहकों की आपूर्ति करने के लिए अपनी सेवा में सुधार करने के लिए अपनी पूरी कोशिश कर रहे हैं।एक बार जब आप हमें चुनते हैं, तो आप हमारे स्थिर उच्च गुणवत्ता वाले उत्पाद, अन्य आपूर्तिकर्ताओं की तुलना में अधिक प्रतिस्पर्धी मूल्य और हमारी समय पर, उच्च कुशल सेवाएं प्राप्त करेंगे।
हम R05200, R05400 लक्ष्य बनाते हैं जो ASTM B708 मानक को पूरा करते हैं और हम आपके द्वारा प्रदान किए गए चित्र के अनुसार लक्ष्य बना सकते हैं।हमारे उच्च गुणवत्ता वाले टैंटलम सिल्लियां, उन्नत उपकरण, नवीन प्रौद्योगिकी, पेशेवर टीम का लाभ उठाते हुए, हमने आपके आवश्यक स्पटरिंग लक्ष्यों को तैयार किया है।आप हमें अपनी सभी आवश्यकताओं को बता सकते हैं और हम आपकी आवश्यकताओं के निर्माण में समर्पित हैं।
प्रकार और आकार:
ASTM B708 मानक टैंटलम स्पटरिंग लक्ष्य, 99.95% 3N5 - 99.99% 4N शुद्धता, डिस्क लक्ष्य
रासायनिक संरचनाएँ:
विशिष्ट विश्लेषण: ता 99.95% 3N5 - 99.99% (4N)
धात्विक अशुद्धियाँ, वजन के अनुसार पीपीएम अधिकतम
| तत्व | Al | Au | Ag | Bi | B | Ca | Cl | Cd | Co | Cr | Cu | Fe |
| संतुष्ट | 0.2 | 1.0 | 1.0 | 1.0 | 0.1 | 0.1 | 1.0 | 1.0 | 0.05 | 0.25 | 0.75 | 0.4 |
| तत्व | Ga | Ge | Hf | K | Li | Mg | Na | Mo | Mn | Nb | Ni | P |
| संतुष्ट | 1.0 | 1.0 | 1.0 | 0.05 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 5.0 | 0.1 | 75 | 0.25 | 1.0 |
| तत्व | Pb | S | Si | Sn | Th | Ti | V | W | Zn | Zr | Y | U |
| संतुष्ट | 1.0 | 0.2 | 0.2 | 0.1 | 0.0 | 1.0 | 0.2 | 70.0 | 1.0 | 0.2 | 1.0 | 0.005 |
गैर-धात्विक अशुद्धियाँ, वजन के अनुसार पीपीएम अधिकतम
| तत्व | N | H | O | C |
| संतुष्ट | 100 | 15 | 150 | 100 |
संतुलन: टैंटलम
अनाज का आकार: विशिष्ट आकार <100μm अनाज का आकार
अनुरोध पर उपलब्ध अन्य अनाज आकार
समतलता: ≤0.2 मिमी
सतह खुरदरापन: <रा 1.6μm
सतह: पॉलिश
अनुप्रयोग
अर्धचालक, प्रकाशिकी के लिए कोटिंग सामग्री
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